Máy quang phổ phát xạ nguyên tử plasma kết hợp cảm ứng ICP-5000

Máy quang phổ phát xạ nguyên tử plasma cảm ứng (ICP-5000 series)

Nguyên lý hoạt động của máy quang phổ ICP-5000 series

 Máy quang phổ phát xạ nguyên tử plasma cảm ứng (ICP-AES) chủ yếu được sử dụng để phân tích định lượng các nguyên tố kim loại và một số nguyên tố phi kim trong mẫu lỏng (bao gồm cả mẫu rắn có thể chuyển đổi thành dung dịch sau khi xử lý hóa học). Đưa dung dịch mẫu ở dạng sol khí vào ngọn lửa plasma, mẫu được bay hơi và các đặc tính kích thích và phát xạ của các nguyên tố có trong bước sóng ánh sáng. Sau khi hệ thống tách chia, cường độ quang phổ của nó được các thiết bị quang điện tử chấp nhận và chuyển thành tín hiệu điện và đã được thu thập. Theo sự tương ứng giữa nồng độ của các nguyên tố và cường độ quang phổ để xác định hàm lượng tương ứng của các nguyên tố trong mẫu.

Các tính năng của máy quang phổ ICP-5000 series

 Công suất có thể điều chỉnh liên tục, nguồn điện RF trạng thái rắn kích thích, hiệu suất ổn định của sự phù hợp trở kháng tự động, có thể đạt được chức năng đánh lửa một phím, người dùng chỉ cần một thao tác phím, thiết bị tự động xả khí, phát hiện dòng chảy, đánh lửa, phù hợp tự động, v.v., nhiều hành động khác và có thể cung cấp thông tin theo thời gian thực cho khách hàng, để khách hàng yên tâm và tiết kiệm thời gian, đồng thời có thể cung cấp các phương pháp phân tích tốt hơn và giúp việc phân tích dễ dàng hơn.

 Việc sử dụng hệ thống quang học tốt, hệ thống điều khiển điện tử tiên tiến để đảm bảo định vị chính xác của thiết bị và tỷ lệ cao để đảm bảo độ chính xác và độ nhạy cao của thiết bị.

 Các thành phần chính sử dụng các thành phần nhập khẩu, để đảm bảo độ chính xác và độ nhạy của thiết bị.

 Hệ thống kiểm soát lưu lượng khối khí chính xác để đảm bảo đầu ra khí ổn định hơn và cải thiện hơn nữa độ chính xác và độ ổn định phân tích.

 Hệ thống phun tiên tiến: Hệ thống phun hiệu quả, ổn định và có thể được trang bị nhiều loại bộ phun trong và ngoài nước, buồng phun, chẳng hạn như phun muối và bộ phun chịu axit flohydric, để đáp ứng các nhu cầu khác nhau của khách hàng; bằng bơm nhu động để kiểm soát việc loại bỏ chất thải, đảm bảo thể tích phun và loại bỏ chất thải có tốc độ nhất quán, để đảm bảo hệ thống phun ổn định.

 Độ phân giải cao: với một lợi thế phi thường trong việc phân tích các ma trận mẫu phức tạp như đất hiếm.

 Phạm vi đo: phân tích từ minim (ppb) đến hằng số.

 Phần mềm phân tích tiện lợi: Tất cả giao diện hệ điều hành windows tiếng Trung, phần mềm phân tích mạnh mẽ, âm thanh để đạt được phân tích định tính và định lượng hoàn toàn tự động, có thể tạo PDF, Excel, Word và các định dạng khác và làm cho hoạt động của thiết bị và xử lý dữ liệu rất thuận tiện.

 Tốc độ phân tích nhanh chóng: Tốc độ quét nhanh nhất có thể lên đến 20 nguyên tố / phút, có thể đo 5-8 nguyên tố mỗi phút.

 Phân tích đa nguyên tố: có thể thực hiện phân tích định tính và định lượng cho 72 loại nguyên tố kim loại và một số nguyên tố phi kim (P, B, Si, Se, Te).

 Giới hạn phát hiện thấp: hầu hết các nguyên tố ở mức μg / L (ppb), một số nguyên tố có thể đạt 0,1ppb.

Chỉ số hiệu suất của máy quang phổ ICP-5000 series

Phạm vi đo: a. hàm lượng dung dịch: 0,01ppm - vài nghìn ppm;

hàm lượng chất rắn: 0,001% -70%;

Độ lặp lại: độ lệch chuẩn tương đối RSD≤1,5%;

Độ ổn định: Độ lệch chuẩn tương đối RSD≤2,0%;

Giới hạn phát hiện của các nguyên tố điển hình: Hầu hết các nguyên tố (1-10) ppb;

Chỉ số hiệu suất thành phần cốt lõi của dòng ICP-5000 

Hệ thống quang học

1) Đường quang phổ kế loại Czerny Turner

2) Tiêu cự: 1000mm

3) Lưới: lưới nhiễu xạ toàn ảnh khắc ion, mật độ rãnh 3600L / mm hoặc 2400L / mm;

4) bước tối thiểu của trình điều khiển động cơ bước: 0,0004nm

5) khe vào: 20μm   khe ra: 18μm

6) Ống kính: ф30,1: 1 tạo ảnh

7) Độ phân giải quang học: ≤0,008nm (3600L / mm)

             ≤0,012nm (2400L / mm)

8) Kiểm soát nhiệt độ phòng ánh sáng: (30 ± 0,2) ℃

Hệ thống đo lường và điều khiển điện tử

1) thông số kỹ thuật ống nhân quang: CR293

2) điện áp cao âm ống nhân quang: (0-1100) V điều chỉnh tự động, ổn định <0,05%

3) phạm vi đo dòng điện ống nhân quang: ( ∽) A

4) thu thập tín hiệu: chuyển đổi VF

Nguồn RF

1) Phù hợp trở kháng tự động

2) nguồn RF trạng thái rắn kích thích

3) Công suất đầu ra có thể điều chỉnh liên tục

4) Tần số: 27,12MHz

5) Công suất: 800-1600W

6) Độ ổn định công suất đầu ra: ≤0,3%

7) độ ổn định công suất: ≦ 0,2%

8) cường độ rò rỉ bức xạ điện từ: thân máy 300mm từ cường độ điện trường E: <2V >

Hệ thống phun:

1) cuộn dây làm việc đầu ra: đường kính 25mm, 3 vòng

2) Đuốc: đuốc thạch anh đường kính ngoài 20mm

3) Bộ phun: bộ phun đồng trục đường kính ngoài 6mm

4) buồng phun: buồng phun lốc xoáy

5) kiểm soát toàn bộ dòng bằng bộ điều khiển lưu lượng khối, với cảm biến lưu lượng khối khí nhập khẩu của Hoa Kỳ, van tỷ lệ nhập khẩu từ Nhật Bản và mạch điều khiển kỹ thuật số

Máy tính

1) Máy tính Hewlett-Packard

2) CPU: ≥2.0G

3) Bộ nhớ: ≥1G

4) Màn hình: LCD 19 inch

5) Ổ cứng: ≥500GB

6) Phần mềm: loại ICP-5000

7) LAN tích hợp

8) Hệ điều hành: WINDOWS Genuine

9) theo bảo hành Hewlett-Packard dịch vụ tại chỗ miễn phí

Hệ thống xử lý phần mềm hệ thống:

1) Cấu hình đa phương tiện mới nhất, khả năng xử lý đa nhiệm, tốc độ cao, dung lượng lớn

2) các tính năng chẩn đoán đồ họa mạnh mẽ để giúp khách hàng hiểu trạng thái làm việc của thiết bị và thông qua các cài đặt thông số thích hợp được quan sát trong các điều kiện khác nhau của điều kiện hoạt động của thiết bị, để nắm bắt các điều kiện quan sát tốt nhất

3) có chức năng tái xử lý dữ liệu và sau đó

4) với khả năng lọc dữ liệu bất thường loại bỏ những thứ không mong muốn

5) tự động tính toán hàm lượng nguyên tố, tự động tạo báo cáo thử nghiệm, báo cáo kiểm tra có thể được chọn theo nhu cầu của người dùng, trong khi báo cáo có thể được lưu dưới dạng Pdf, Word, Excel và các định dạng khác, phân tích thân thiện với người dùng

Cấu hình chính của máy quang phổ ICP-5000 series

1) Máy quang phổ phát xạ plasma cảm ứng, một bộ

2) Chu trình làm lạnh của một máy, một bộ

3) Một nguồn cung cấp điện, một bộ

4) một máy tính (máy tính Hewlett-Packard), một bộ

5) Một máy in laser (máy in Hewlett-Packard), một bộ

6) Phụ kiện ngẫu nhiên, một bộ

Ứng dụng

1) ngành công nghiệp đất hiếm: đất hiếm, kim loại màu, độ phân giải cao, giới hạn phát hiện thấp.

2) ngành công nghiệp silicon: vật liệu silicon, ngành công nghiệp chế biến vật liệu từ tính.

3) ngành luyện kim: để phân tích tác động của một khối lượng lớn vật liệu kim loại P, Mn, Si, Ni, Mo, Cu, Cr, Al, V, Ti.

4) chất lượng nước, phân tích đất: phát hiện chất lượng nước, ô nhiễm đất của tám kim loại nặng và các nguyên tố khác.

5) địa chất, khoáng sản, phân tích kim loại màu: Xác định canxi, magiê, natri, sắt, đồng, mangan, kẽm, coban, niken, vàng, bạc và các nguyên tố khác của mẫu đá.

6) ứng dụng các lĩnh vực hóa dầu và công nghiệp nhẹ: 30 thử nghiệm thô một loạt các nguyên tố, chủ yếu là Si, Fe, Na, Mg, Ni, V, Ca, Pb, Mo, Mn, Cr, Co, Ba, As, v.v. .

7) y tế, sức khỏe, nông nghiệp, bảo vệ môi trường, thương mại, kiểm tra chất lượng thực phẩm.

Điều kiện lắp đặt

8) các điều kiện làm việc bình thường của thiết bị: phòng thí nghiệm sạch sẽ, khô ráo và không có bụi và rung. Tốt nhất nên giữ ở nhiệt độ phòng là 25 ℃ ± 2 ℃

9) Phòng: khoảng 15 mét vuông là thích hợp, với tủ thuốc thử dung dịch tiêu chuẩn, bàn máy tính, ghế máy tính, điều hòa 1,5-2 mã lực.

10) nguồn điện: 220V, 22A, sử dụng dây 4 cm2.

11) tiếp đất: Để đảm bảo an toàn và ổn định của thiết bị, phải có tiếp đất tần số cao, các yêu cầu cụ thể về tiếp đất: điện trở tiếp đất nhỏ hơn 2 ohms, cấm sử dụng đường dây không thay cho mặt đất (khuyến nghị khoảng 20mm rộng, hoặc khoảng 15mm dây đồng rộng, che chắn, tiếp đất với 50 × 40 cm2 tại đồng chôn 1,5m hoặc sử dụng đường kính 1500mm lớn hơn 15mm tiếp đất bằng đồng dài, tiếp đất tại 1Kg muối đổ và than ngâm trong nước).

12) khí thải: yêu cầu lắp đặt ống xả phía trên máy chủ, ống khói bên ngoài với quạt hút để xả khí sau khi đốt ICP ra ngoài.

13) Argon: Bạn có thể sử dụng argon thông thường đến 99,99%

Danh sách đóng gói